スパッタ装置は、加速させたプラズマのイオンをターゲットにぶつけて、ターゲットから物質を弾き出し、それを基板上に製膜する装置です。
我々の研究室の装置は高周波スパッタ装置と呼ばれるもので、絶縁体も簡単に製膜できます。
ターゲットは五元あり、主に金、チタン、タンタル、シリコン酸化物、ニッケル鉄合金を製膜しています。