超高真空蒸着装置は、真空チャンバー内を超高真空まで排気して、電子ビーム加熱装置で材料を蒸発させることにより薄膜を作製する装置です。

いずれの装置も、複数の電子ビーム加熱装置を備えており、様々な組み合わせの金属や絶縁体を蒸着することができます。

真空ポンプは、粗挽きにターボ分子ポンプを使用し、メインポンプはクライオポンプあるいはイオンポンプを使用しています。

我々のグループでは、このような真空蒸着装置を４台所有しています。

超高真空蒸着装置 (６号機) アネルバ製ＪＰＳ３３０Ｓ改 到達真空度　3×10-9 Torr 四基の単発電子銃を用いることによって、交互積層蒸着膜や同時蒸着膜を作製することができます。		超高真空蒸着装置 (7号機) アネルバ製JPS100S改 到達真空度　2×10-10 Torr 二基の多元電子銃と一基の単発電子銃を有しており、様々な金属、人工格子の作製が可能です。なお、ロードロック室にはイオン銃が取り付けられており、蒸着前の基板のミリングも可能です。